苹果在实现iPhone真全面屏设计的征途中，面临的最大挑战莫过于将Face ID技术融入屏下。这一难题源于Face ID复杂的工作原理，它需要深感摄像头投射并解析大量光点以精确捕捉人脸数据。而其中的红外摄像头、点阵投影器等核心组件，在现有技术框架下，尚无法被完全隐藏于屏幕之下。因此，苹果目前只能采用妥协的药丸屏设计。
然而，近日有消息透露，苹果已经取得了一项关于屏下Face ID的专利，该专利成功攻克了屏下摄像头的技术瓶颈。这一专利的核心在于提升红外光的透光率。尽管红外光能够穿透显示屏，但其透射效率极低，若强行置于屏幕之下，将大幅延长人脸识别过程，并降低其安全性和可靠性。
苹果的最新专利显示，他们通过移除部分子像素的方式，让红外光得以穿透盖板，从而实现屏下人脸识别。显示器由众多像素构成，每个像素又包含红、绿、蓝三个子像素，屏幕上的色彩正是由这三种不同颜色的子像素叠加、混合而成的。
具体来说，苹果的解决方案是移除相邻的相同颜色子像素，以此确保红外光能够顺利穿过OLED面板。这些被移除的子像素并不会被用户察觉，因为苹果会利用相邻的子像素，通过颜色混合技术来弥补缺失的部分，从而保持整体显示效果的连贯性。这一创新方案不仅解决了屏下Face ID的技术难题，还确保了屏幕显示的品质。
据称，这一方案最快将在2026年的iPhone 18系列上得到应用。届时，iPhone 18系列将告别当前的药丸屏设计，转而采用单挖孔屏形态，为用户带来更加沉浸的视觉体验。
