近期，被誉为“浸润光刻之父”的林本坚，中国台湾清华大学半导体研究学院院长及台积电前研发副总，在接受访谈时分享了对半导体行业未来的独到见解。他特别提及，中国大陆在半导体领域或将开创全新局面，甚至可能孕育出如同DeepSeek般的革命性突破。
林本坚强调，中国大陆无需局限于7nm、5nm等先进制程的竞赛，而应探索新材料与新架构的潜力。他比喻道：“就如同DeepSeek在全球算力领域掀起的波澜，它不走寻常路，却以超乎预期的速度和效率达成了目标。”他进一步阐述，利用这些创新手段，即便采用7nm制程，也能实现甚至超越5nm制程的功能。
在访谈中，林本坚还提到，面对外界的不断鞭策，中国大陆正加大半导体领域的投资与研发力度。这种压力或许将成为催生“半导体界DeepSeek”的催化剂。他解释道：“当新材料与架构被巧妙融合，原本需要缩小尺寸的目标或许就能轻松达成，DeepSeek就是一个生动的例子。”
林本坚警示，如果中国大陆在半导体领域持续取得突破性进展，那么台积电在2nm、3nm等先进制程上的努力可能会面临被颠覆的风险。他坦言：“这将是一个严峻的挑战，因为中国大陆不仅拥有成本优势，还拥有庞大的市场。他们正全力以赴地投资与创新，一旦取得类似DeepSeek的成就，整个行业都将为之震撼。”
林本坚的观点不仅揭示了半导体行业面临的潜在变革，也引发了对未来竞争格局的深思。他的话语中透露出对行业创新的期待与对挑战的警觉，为半导体行业的发展提供了新的视角和思考方向。
